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판매기술 : [한국화학연구원] 공정비용 절감이 가능한 고성능 니켈산화물박막 제조방법
분류 : 사업화파트너 판매금액 : 추후협의
번호 : ATTCenter_S201290120 마감일 : 2014-09-20
기술요약
  • 새로운 니켈 선구물질의 개발 및 적용을 통해 전기전도 특성을 획기적으로 향상시키고 공정비용을 크게 절감할 수 있는 저온공정용 니켈산화물 박막 증착기술

  • 상세설명
      [기존 기술의 한계]
    • 반도체 및 디스플레이 산업분야에서 전극물질로 다양하게 활용되고 있는 니켈산화물 박막은 주로 MOCVD법에 의한 니켈 선구물질 증착을 통해 제조하고 있음
    • 기존에 주로 사용되고 있는 니켈 선구물질인 Ni(acac)2 및 Ni(C5H5)2는 제조단가가 높고 증착 시 높은 온도를 필요로 하여 공정비용이 증가하는 단점이 있음
    • 또한 선구물질 내에 탄소가 포함되어 있어, 증착 후 전극 내에 남아있는 탄소로 인해 전기전도 특성이 저하됨

      [Unmet Needs]
    • 낮은 온도에서도 니켈산화물 박막의 증착이 가능하고 증착과정에서의 탄소오염도가 낮은 니켈 선구물질 개발이 필요함

      [기술이 가져다주는 명백한 혜택]
    • (전기전도 특성 향상) 탄소와 같은 불순물이 포함되어 있지 않은 새로운 니켈 선구물질을 적용하여 우수한 박막품질 구현과 함께 전기전도 특성을 크게 향상시킬 수 있음
    • ­ (공정비용 절감) 기존의 니켈 선구물질인 Ni(acac)2 및 Ni(C5H5)2에 비해 가격이 저렴하고 저온공정이 가능한 새로운 니켈 선구물질을 적용하여 공정비용을 획기적으로 절감할 수 있음

      [차별적 특징]
    • ­ (세계최초의 니켈 선구물질 적용) 기존 니켈 선구물질에 비해 산소원에 대한 반응도가 높은 니켈 아미노알콕사이드 화합물을 선구물질로 개발 및 적용함으로써 저온공정을 구현함
    • 또한 증착공정 시 박막의 탄소오염을 최소화하여 박막표면의 거칠기가 낮고 결정립이 균일한 니켈산화물의 형성이 가능함

      [믿을 수 있는 근거]
    • (기술구현) 니켈원으로 니켈 아미노알콕사이드를 사용하고, 산소원으로는 산소 원소를 함유하는 기체를 MOCVD 반응기에 공급하여 기판 상의 열분해에 의한 산화니켈 박막을 형성함
    • 증착 온도 및 증착 압력을 조절하여 산화니켈 박막의 구조적, 화학적, 전기적 특성을 제어할 수 있음
    • (특허등록) 니켈 아미노알콕사이드 선구 물질을 사용하여 금속 유기물화학 증착법으로 니켈 산화물 박막을 제조하는 방법(10-0704914)
    요구사항
  • 희망협력형태: 기술 라이센싱/기술 판매
  • 첨부파일
    Nickel.pdf
    담당자
    김민수 / 기술비즈니스사업부/ 선임연구원 / 02-6917-5561 / minsuhi@tenopa.co.kr